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紫外臭氧清洗機(jī)的表面清洗和制程方法有多種選擇

更新時(shí)間:2022-08-16   點(diǎn)擊次數(shù):1397次
   相信大家對紫外臭氧清洗機(jī)已經(jīng)不會(huì)感到陌生了吧,它具有安全、簡易的操作特點(diǎn),配置了安全傳感器將避免臭氧環(huán)境污染和紫外線對操作者的暴露;并擁有良好的簡易人機(jī)交互控制界面,不需要任何特殊的培訓(xùn)即可使用。隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展,光清洗和光改質(zhì)技術(shù)還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
  
  紫外臭氧表面清洗應(yīng)用范圍較廣,在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應(yīng)用??梢杂糜诠杵退芰习b的表面清洗;用于在MOCVD和ALD工藝之前對III-V復(fù)合半導(dǎo)體晶圓片(如GaAs和InP)進(jìn)行表面清洗;用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗;適用于各類材質(zhì)表面的有機(jī)污染物清洗。
  
  雖然表面清洗和制程方法有多種選擇,但紫外臭氧清洗顯示出優(yōu)于其他方法的幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。而傳統(tǒng)清洗方式分別為干法清洗和濕法清洗兩種方式:
  1、與干法清洗對比,基板充電損傷小。在等離子體處理中,離子轟擊引起的充電損傷是一個(gè)嚴(yán)重的挑戰(zhàn)。它會(huì)導(dǎo)致器件的電氣特性退化。紫外臭氧處理提供表面處理使用氧自由基沒有等離子體放電,它是等離子體蝕刻的一種經(jīng)濟(jì)有效的替代方法,因?yàn)樗恍枰魏翁厥獾恼婵帐?、氣體或特殊設(shè)備。
  2、與濕法清洗對比,沒有有害的廢水。濕式清洗需要處理化學(xué)廢水,與濕法清洗相比,紫外UV臭氧處理是一個(gè)*干燥的過程。而紫外臭氧清洗機(jī)內(nèi)會(huì)配備臭氧清除裝置,廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解,不會(huì)造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過高從而產(chǎn)生危害。它也可配置成連續(xù)加載的清洗線,并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合,*清除表面的顆粒。
  
  紫外臭氧清洗機(jī)常用于掃描探測顯微鏡的樣品應(yīng)用,能用于清洗原子力顯微鏡探針,掃描探針顯微鏡標(biāo)準(zhǔn)和表面上常規(guī)的油漬層和殘留的無機(jī)材料,也能用來改變物體表面的疏水性,有助于部件和表面的化學(xué)改性,經(jīng)過氧化和硬化處理的探針有利于在掃描過程中保持探針的幾何形狀,削尖的探針有利于提高側(cè)向分辨率。
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